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铬靶

单质铬靶材,采用先进的热等静压技术,材料致密度高,用于真空电镀行业,主要做黑金,膜层附着力高,不易掉膜!
  • 2N5-4N

  • 7.19g/cm3

状态:

单质铬靶材,采用先进的热等静压技术,材料致密度高,用于真空电镀行业,主要做黑金,膜层附着力高,不易掉膜!

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