钛靶材的参数通常包括以下几个方面：
1. 纯度：
– 高纯度钛靶材的纯度通常达到99.995%以上，适用于高端应用如半导体和光学镀膜。
– 工业级钛靶材的纯度一般在99.9%左右，适用于一般工业用途。
2. 尺寸：
– 直径：常见的直径范围从1英寸到12英寸不等。
– 厚度：厚度通常在0.125英寸到0.5英寸之间，具体厚度根据应用需求定制。
3. 形状：
– 圆形、矩形、方形等，具体形状根据镀膜设备的要求定制。
4. 表面光洁度：
– 表面光洁度通常要求较高，以减少镀膜过程中的杂质和缺陷。
5. 密度：
– 钛的密度约为4.51 g/cm³，靶材的密度应接近理论值以确保均匀的镀膜效果。
6. 晶粒尺寸：
– 晶粒尺寸通常控制在微米级别，以保证靶材的均匀性和稳定性。
钛靶材的应用
钛靶材广泛应用于多个领域，主要包括：
1. 半导体行业：
– 用于制造集成电路和半导体器件中的金属化层和阻挡层。
2. 光学镀膜：
– 用于制造光学器件如透镜、反射镜和滤光片，提高其光学性能。
3. 装饰镀膜：
– 用于手表、首饰、手机外壳等装饰性镀膜，提供耐磨、耐腐蚀的表面。
4. 工具涂层：
– 用于切削工具、模具等的涂层，提高其硬度和耐磨性。
5. 太阳能电池：
– 用于制造太阳能电池的电极和反射层，提高光电转换效率。
6. 医疗设备：
– 用于制造医疗植入物和手术器械，提供生物相容性和耐腐蚀性。
7. 航空航天：
– 用于制造航空航天器件的涂层，提供高强度和耐高温性能。
总结
钛靶材因其高纯度、优异的物理和化学性能，在多个高科技领域有着广泛的应用。具体的参数和应用需根据实际需求进行选择和定制。